KAIST, 화학물질 없이 표면가공 하는 반도체 기술 개발 3년 ago57년 ago01 mins 제네바대와 공동 연구…””대면적 나노 구조 제작 가능”” (대전=연합뉴스) 정찬욱 기자 = 차세대 반도체 메모리 소재로 주목받는 강유전체를 화학 물질 없이 식각(蝕刻·… 연합뉴스 바로가기 글 내비게이션 Previous: 남양주시 주거복지센터, 주거복지사업 실무자 간담회 개최Next: 총선 D-15 우세지역 물었더니…국민의힘 “”82곳”” 민주 “”110곳””(종합2보) 답글 남기기 응답 취소이메일 주소는 공개되지 않습니다. 필수 필드는 *로 표시됩니다댓글 * 이름 * 이메일 * 웹사이트 다음 번 댓글 작성을 위해 이 브라우저에 이름, 이메일, 그리고 웹사이트를 저장합니다.
